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                真空鍍膜
                更新時間:2019-12-14 15:05:52
                所用基材有PE、PET、PI、PP、OPP、BOPP、紙、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量為1%~2%,紙含水量更大,一般為5%-7%,經涂布烘...
                      所用基材有PE、PET、PI、PP、OPP、BOPP、紙、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量為1%~2%,紙含水量更大,一般為5%-7%,經涂布烘干后,含水量仍有3%。由于基材含水量高,故鍍膜室由初始的單室發展到目前雙室或多室結構。蒸發源可以是電阻式、感應式、電子柬式以及磁控濺射式。雙室結構應用普遍,其優點是:①可以蒸鍍放氣量較大的紙基材,并能保障鍍膜質量。紙放出的大量氣體從卷繞室中被排走。由于卷繞室與蒸鍍室之間隔板窄縫很小,使放出來的氣體不易進入蒸鍍室中;②單室結構必須配置較大的排氣系統才能保障蒸鍍時的工作壓力,而雙室結構中的蒸鍍室氣體量較小,可配小型抽氣機組,使設備成本降低,并節約能源;③卷繞室與蒸鍍室分別抽氣,可縮短抽氣時間。
                  
                  卷繞式真空鍍膜機在結構上除了有一般鍍膜機的結構外,必須有一個為了實現連續鍍膜而設置的卷繞機構。由于被鍍基體是紙或塑料,放氣量較大,因此,在真空室的結構上又有單室和多室之分,卷繞式雙室真空鍍膜機的結構如圖10-10所示。

                  
                  卷繞機構設計中應考慮的幾個問題:
                  
                 ?、偬岣呔砝@速度的問題。卷繞速度即是帶狀基材運動的線速度,它是卷繞機構的一個主要技術指櫟。國內早期鍍膜機卷繞速度只有10m/min,現在也只有80m/min~120m/min,在國外日本的EW系列產品中,其卷繞速度已達到300m/min,德國L.H公司生產的鍍膜機已達到600m/min,可見隨著鍍膜技術的發展,卷繞速度有待提高。
                  
                 ?、趲罨牡木€速恒定問題。這一問題也很重要,因為只有卷繞機構******帶狀基材的線速恒定,才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點對制備帶狀基材的功能性膜(如電容器膜)尤為重要。
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